中国光刻机行业专项调研及投资战略咨询报告2022-2027年

时间：2022-03-23

中国光刻机行业专项调研及投资战略咨询报告2022-2027年
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[报告编号]474582
[出版日期] 2022年3月
[出版机构] 产业经济研究院
[交付方式] 电子版或特快专递
[报告价格] 纸质版 6500元电子版6800元纸质版+电子版7000元
[客服专员] 李军

**章　光刻机行业相关概述
1.1　光刻机的基本介绍
1.1.1　概念界定
1.1.2　构成结构
1.1.3　工作原理
1.1.4　工艺步骤
1.1.5　基本特点
1.2　光刻机的性能指标
1.2.1　分辨率
1.2.2　物镜镜头
1.2.3　光源波长
1.2.4　曝光方式
1.2.5　套刻精度
1.2.6　工艺节点
1.3　光刻机的演变及分类
1.3.1　摩尔定律
1.3.2　光刻机的演变
1.3.3　光刻机的分类
*二章　2021-2022年国际光刻机行业发展分析
2.1　光刻机行业产业链分析
2.1.1　光刻机产业链基本构成
2.1.2　光刻机产业链上游分析
2.1.3　光刻机产业链中游分析
2.1.4　光刻机产业链下游分析
2.2　**光刻机行业发展综述
2.2.1　发展环境分析
2.2.2　产业发展历程
2.2.3　市场发展规模
2.2.4　市场竞争格局
2.2.5　供需关系分析
2.2.6　价格变化态势
2.3　**光刻机细分市场分析
2.3.1　细分产品结构
2.3.2　i-line光刻机
2.3.3　KrF光刻机
2.3.4　ArF光刻机
2.3.5　ArFi光刻机
2.3.6　EUV光刻机
2.4　**光刻机重点企业运营情况：ASML
2.4.1　企业发展概况
2.4.2　企业发展历程
2.4.3　产业的生态链
2.4.4　创新股权结构
2.4.5　经营状况分析
2.4.6　产品结构分析
2.4.7　光刻产品布局
2.4.8　技术研发现状
2.4.9　企业战略分析
2.5　**光刻机重点企业运营情况：Canon
2.5.1　企业发展概况
2.5.2　经营状况分析
2.5.3　企业业务分析
2.5.4　现有光刻产品
2.5.5　技术研发现状
2.6　**光刻机重点企业运营情况：Nikon
2.6.1　企业发展概况
2.6.2　经营状况分析
2.6.3　企业业务结构
2.6.4　企业光刻产品
2.6.5　光刻技术研发
2.6.6　光刻业务面临挑战
*三章　2021-2022年中国光刻机行业政策环境分析
3.1　中国半导体产业政策分析
3.1.1　历史政策梳理
3.1.2　重点政策分析
3.1.3　中外政策对比
3.2　中国半导体行业政策主要变化
3.2.1　规划目标的变化
3.2.2　发展侧重点变化
3.2.3　财税政策的变化
3.2.4　扶持主体标准变化
3.3　中国光刻机行业相关支持政策
3.3.1　产业重要政策
3.3.2　补贴基础设施
3.3.3　扶持配套材料
3.3.4　完善产业环境
*四章　2021-2022年中国光刻机行业发展环境分析
4.1　中美科技战影响分析
4.1.1　《瓦森纳协定》解读
4.1.2　美方对华发动科技战原因
4.1.3　美对中科技主要制裁措施
4.1.4　中美科技领域摩擦的影响
4.2　经济环境分析
4.2.1　宏观经济概况
4.2.2　对外经济分析
4.2.3　工业经济运行
4.2.4　宏观经济展望
4.3　投融资环境分析
4.3.1　半导体行业资金来源
4.3.2　大基金一期完成情况
4.3.3　大基金一期投向企业
4.3.4　大基金二期实行现状
4.3.5　各省市资金扶持情况
4.4　人才需求环境分析
4.4.1　中国人才需求现状概况
4.4.2　人才与薪酬呈现双增长
4.4.3　制造行业人才供需失衡
4.4.4　高端创新领域人才紧缺
4.4.5　人才培养机制暂不健全
*五章　2021-2022年中国光刻机行业发展综况
5.1　中国光刻机行业发展综述
5.1.1　行业发展背景
5.1.2　行业发展历程
5.1.3　行业发展现状
5.1.4　产业上游分析
5.1.5　产业下游分析
5.2　中国光刻机行业运行状况
5.2.1　行业驱动因素
5.2.2　企业区域分布
5.2.3　国内采购需求
5.2.4　国产供给业态
5.2.5　行业投融资情况
5.3　2021-2022年中国光刻机进出口数据分析
5.3.1　进出口总量数据分析
5.3.2　主要贸易国进出口情况分析
5.3.3　主要省市进出口情况分析
5.4　中国光刻机行业发展问题
5.4.1　主要问题分析
5.4.2　产业发展挑战
5.4.3　行业发展痛点
5.4.4　行业发展风险
5.5　中国光刻机行业发展对策
5.5.1　增加科研投入
5.5.2　加快技术突破
5.5.3　加强人才积累
*六章　2020-2022年光刻机产业链上游分析
6.1　光刻核心组件重点行业发展分析
6.1.1　双工作台
6.1.2　光源系统
6.1.3　物镜系统
6.2　光刻配套设施重要行业发展分析
6.2.1　光刻气体
6.2.2　光掩膜版
6.2.3　缺陷检测
6.2.4　涂胶显影
6.3　光刻核心组件重点企业解析
6.3.1　双工作台：华卓精科
6.3.2　浸没系统：启尔机电
6.3.3　曝光系统：国科精密
6.3.4　光源系统：科益虹源
6.3.5　物镜系统：国望光学
6.4　光刻配套设施重点企业解析
6.4.1　配套光刻气：华特气体、凯美特气
6.4.2　光掩膜版：清溢光电、菲利华
6.4.3　缺陷检测：东方晶源
6.4.4　涂胶显影：芯源微
*七章　2021-2022年光刻机上游——光刻胶行业分析
7.1　光刻胶行业发展综述
7.1.1　光刻胶的定义
7.1.2　光刻胶的分类
7.1.3　光刻胶重要性
7.1.4　技术发展趋势
7.2　**光刻胶行业发展
7.2.1　光刻胶产业链
7.2.2　行业发展历程
7.2.3　市场发展现状
7.2.4　细分市场分析
7.3　中国光刻胶企业发展
7.3.1　国产市场现状
7.3.2　行业发展规模
7.3.3　企业布局分析
7.4　国产光刻胶重点企业运营情况
7.4.1　江苏南大光电材料股份有限公司
7.4.2　苏州晶瑞化学股份有限公司
7.4.3　江苏雅克科技股份有限公司
7.4.4　深圳市容大感光科技股份有限公司
7.4.5　上海新阳半导体材料股份有限公司
7.4.6　北京科华微电子材料有限公司
*八章　2020-2022年光刻机产业链下游应用分析
8.1　芯片领域
8.1.1　芯片相关概念
8.1.2　芯片制程工艺
8.1.3　行业运营模式
8.1.4　芯片产品分类
8.1.5　行业发展现状
8.1.6　行业产量规模
8.1.7　产业结构分布
8.2　芯片封装测试领域
8.2.1　封装测试概念
8.2.2　市场规模分析
8.2.3　市场竞争格局
8.2.4　国内重点企业
8.2.5　封测技术发展
8.2.6　行业发展趋势
8.3　LED领域
8.3.1　LED行业概念
8.3.2　行业产业链条
8.3.3　产业市场规模
8.3.4　**竞争格局
8.3.5　应用领域分析
8.3.6　行业发展趋势
*九章　2021-2022年光刻机行业技术发展分析
9.1　**光刻技术发展综述
9.1.1　**技术演进阶段
9.1.2　**技术发展瓶颈
9.1.3　**技术发展方向
9.2　中国光刻技术发展态势
9.2.1　中国研发进展分析
9.2.2　国内技术研发状况
9.2.3　中国发展技术问题
9.2.4　国内技术研究方向
9.3　光刻机行业**技术状况
9.3.1　数据来源分析及介绍
9.3.2　专利申请趋势分析
9.3.3　技术产出区域分析
9.4　光刻机重点技术分析
9.4.1　接触接近式光刻技术
9.4.2　投影式光刻技术
9.4.3　步进式光刻技术
9.4.4　双工作台技术
9.4.5　双重图案技术
9.4.6　多重图案技术
9.4.7　浸没式光刻机技术
9.4.8　较紫外光刻技术
9.5　“02专项”项目分析
9.5.1　“02专项”项目概述
9.5.2　“光刻机双工件台系统样机研发”项目
9.5.3　“较紫外光刻关键技术研究”项目
9.5.4　“**分辨光刻装备研制”项目
*十章　2021-2022年中国光刻机成员企业运营分析
10.1　上海微电子装备（集团）股份有限公司
10.1.1　企业发展概况
10.1.2　产品业务分析
10.1.3　经营情况分析
10.1.4　企业竞争劣势
10.1.5　企业股权结构
10.1.6　技术研究分析
10.2　合肥芯硕半导体有限公司
10.2.1　企业发展概况
10.2.2　企业发展历程
10.2.3　产品结构分析
10.2.4　技术研发分析
10.2.5　核心竞争力
10.3　无锡影速半导体科技有限公司
10.3.1　企业发展概况
10.3.2　企业股权结构
10.3.3　产品结构分析
10.3.4　技术研发分析
10.4　北京半导体**设备研究所
10.4.1　企业发展概况
10.4.2　企业客户构成
10.4.3　产品结构分析
10.4.4　技术研发分析
10.4.5　核心竞争力分析
10.5　成都晶普科技有限公司
10.5.1　企业发展概况
10.5.2　业务经营分析
10.5.3　技术研发分析
10.5.4　核心竞争力分析
*十一章　2021-2022年中国光刻机市场前景分析
11.1　光刻机行业发展前景
11.1.1　**产品发展趋势
11.1.2　**应用场景趋势
11.1.3　中国技术发展机遇
11.1.4　中国市场需求机遇
11.2　“十四五”时期光刻机行业发展展望
11.2.1　先进制程推进加快光刻机需求
11.2.2　材料设备发展加速产业链完善
11.3　2022-2027年中国光刻机行业预测分析
11.3.1　2022-2027年中国光刻机行业影响因素
11.3.2　2022-2027年中国光刻机行业销售规模预测

图表目录
图表　光刻机结构
图表　光刻机组成部分及作用
图表　光刻机工作原理
图表　正性光刻和负性光刻
图表　光刻工艺流程图
图表　IC制造工序
图表　产线中晶圆制造设备投资额占比
图表　光刻机光源类型
图表　接触式曝光分类
图表　投影式曝光分类
图表　各个工艺节点和工艺及光刻机类型的关系图
图表　光刻机演变历程
图表　EUV光刻机发展规划路径
图表　接近接触式光刻分类
图表　光刻机分类
图表　光刻机产业链
图表　光刻机组成结构及特点
图表　光刻机上下游市场产业链及关键企业
图表　**光刻机市场除ASML、Canon、Nikon规模以上企业
图表　2021年光刻机**出货情况
图表　2021年**光刻机企业市场份额占比
图表　2015-2021年光刻机历年竞争格局（按销量）
图表　2015-2021年光刻机三大供应商历年销量
图表　2017-2021年光刻机三大供应商的历年**销售额
图表　2020-2022年**晶圆厂设备（前端）开支预测
图表　不同晶圆制造产线所需光刻机数量
图表　2020年-2021年ASML在中国销售情况
图表　1960-2021年IC前道光刻机价格变化
图表　2021年光刻机**市场的产品结构（销量）
图表　2021年光刻机**市场的产品结构（金额）
图表　2015-2021年光刻机各类产品销量
图表　2015-2021年各类光刻机产品**销售额
图表　**大光刻机企业i-line产品
图表　2018-2021年i-line光刻机销量
图表　**大光刻机企业KrF产品
图表　2018-2021年KrF光刻机销量
图表　**大光刻机企业ArF产品
图表　2018-2021年ArF光刻机销量
图表　**大光刻机企业ArFi产品
图表　2018-2021年ArFi光刻机销量
图表　ASML EUV产品
图表　2018-2021年EUV光刻机销量
图表　2011-2021年EUV光刻机销售及增速
图表　2011-2021年EUV光刻机单价变动
图表　2000之前为ASML快速增长期
图表　1999年ASML区域市场收入占比
图表　浸没式系统帮助ASML毛利率与净利率提升
图表　ASML收购打通EUV产业链
图表　ASML产业链企业分布
图表　ASML主要上游供应商
图表　2018-2019年ASML综合收益表
图表　2018-2019年ASML分部资料
图表　2018-2019年ASML收入分地区资料
图表　2019-2020年ASML综合收益表
图表　2019-2020年ASML分部资料
图表　2019-2020年ASML收入分地区资料
图表　2020-2021年ASML综合收益表
图表　2020-2021年ASML分部资料
图表　2020-2021年ASML收入分地区资料
图表　ASML2021年光刻机销售收入按产品拆分
图表　ASML2021年光刻机销售净利润按地区拆分
图表　ASML2019年-2021年光刻机收入按下游应用拆分
图表　2018-2019年CANON综合收益表
图表　2018-2019年CANON分部资料
图表　2018-2019年CANON收入分地区资料
图表　2019-2020年CANON综合收益表
图表　2019-2020年CANON分部资料
图表　2019-2020年CANON收入分地区资料
图表　2020-2021年CANON综合收益表
图表　2020-2021年CANON分部资料
图表　2020-2021年CANON收入分地区资料
图表　Canon现有光刻机产品
图表　佳能2017-2021年光刻机设备出货量情况
图表　佳能2018-2021年光刻机设备营收
图表　光刻工艺与纳米压印光刻对比
图表　尼康发展历程
图表　2018-2019年NIKON综合收益表
图表　2018-2019年NIKON分部资料
图表　2018-2019年NIKON收入分地区资料
图表　2019-2020年NIKON综合收益表
图表　2019-2020年NIKON分部资料

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