2022-2027年中国光刻机行业发展态势及未来前景趋势预测报告

     2022-2027年中国光刻机行业发展态势及未来前景趋势预测报告




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    《报告编号》: BG551737
    《出版时间》: 2021年12月
    《出版机构》: 中智正业研究院
     



    内容简介:




    **章 光刻机行业相关概述
    1.1 光刻机的基本介绍
    1.1.1 概念界定
    1.1.2 构成结构
    1.1.3 工作原理
    1.1.4 工艺步骤
    1.1.5 基本特点
    1.2 光刻机的性能指标
    1.2.1 分辨率
    1.2.2 物镜镜头
    1.2.3 光源波长
    1.2.4 曝光方式
    1.2.5 套刻精度
    1.2.6 工艺节点
    1.3 光刻机的演变及分类
    1.3.1 摩尔定律
    1.3.2 光刻机的演变
    1.3.3 光刻机的分类
    *二章 2018-2021年国际光刻机行业发展分析
    2.1 光刻机行业产业链分析
    2.1.1 光刻机产业链基本构成
    2.1.2 光刻机产业链上游分析
    2.1.3 光刻机产业链中游分析
    2.1.4 光刻机产业链下游分析
    2.2 **光刻机行业发展综述
    2.2.1 发展环境分析
    2.2.2 产业发展历程
    2.2.3 市场发展规模
    2.2.4 市场竞争格局
    2.2.5 供需关系分析
    2.2.6 价格变化态势
    2.3 **光刻机细分市场分析
    2.3.1 细分产品结构
    2.3.2 i-line光刻机
    2.3.3 KrF光刻机
    2.3.4 ArF光刻机
    2.3.5 ArFi光刻机
    2.3.6 EUV光刻机
    2.4 **光刻机重点企业运营情况:ASML
    2.4.1 企业发展概况
    2.4.2 企业发展历程
    2.4.3 产业的生态链
    2.4.4 创新股权结构
    2.4.5 经营状况分析
    2.4.6 产品结构分析
    2.4.7 光刻产品布局
    2.4.8 技术研发现状
    2.4.9 企业战略分析
    2.5 **光刻机重点企业运营情况:Canon
    2.5.1 企业发展概况
    2.5.2 经营状况分析
    2.5.3 企业业务分析
    2.5.4 现有光刻产品
    2.5.5 技术研发现状
    2.6 **光刻机重点企业运营情况:Nikon
    2.6.1 企业发展概况
    2.6.2 经营状况分析
    2.6.3 企业业务结构
    2.6.4 企业光刻产品
    2.6.5 光刻技术研发
    2.6.6 光刻业务面临挑战
    *三章 2018-2021年中国光刻机行业政策环境分析
    3.1 中国半导体产业政策分析
    3.1.1 历史政策梳理
    3.1.2 重点政策分析
    3.1.3 中外政策对比
    3.2 中国半导体行业政策主要变化
    3.2.1 规划目标的变化
    3.2.2 发展侧重点变化
    3.2.3 财税政策的变化
    3.2.4 扶持主体标准变化
    3.3 中国光刻机行业相关支持政策
    3.3.1 产业重要政策
    3.3.2 补贴基础设施
    3.3.3 扶持配套材料
    3.3.4 完善产业环境
    *四章 2018-2021年中国光刻机行业发展环境分析
    4.1 中美科技战影响分析
    4.1.1 《瓦森纳协定》解读
    4.1.2 美方对华发动科技战原因
    4.1.3 美对中科技主要制裁措施
    4.1.4 中美科技领域摩擦的影响
    4.2 经济环境分析
    4.2.1 宏观经济概况
    4.2.2 对外经济分析
    4.2.3 工业经济运行
    4.2.4 宏观经济展望
    4.3 投融资环境分析
    4.3.1 半导体行业资金来源
    4.3.2 大基金一期完成情况
    4.3.3 大基金一期投向企业
    4.3.4 大基金二期实行现状
    4.3.5 各省市资金扶持情况
    4.4 人才需求环境分析
    4.4.1 中国人才需求现状概况
    4.4.2 人才与薪酬呈现双增长
    4.4.3 制造行业人才供需失衡
    4.4.4 高端创新领域人才紧缺
    4.4.5 人才培养机制暂不健全
    *五章 2018-2021年中国光刻机行业发展综况
    5.1 中国光刻机行业发展综述
    5.1.1 行业发展背景
    5.1.2 行业发展历程
    5.1.3 行业发展现状
    5.1.4 产业上游分析
    5.1.5 产业下游分析
    5.2 中国光刻机行业运行状况
    5.2.1 行业驱动因素
    5.2.2 企业区域分布
    5.2.3 国内采购需求
    5.2.4 国产供给业态
    5.2.5 行业投融资情况
    5.3 2018-2021年中国光刻机进出口数据分析
    5.3.1 进出口总量数据分析
    5.3.2 主要贸易国进出口情况分析
    5.3.3 主要省市进出口情况分析
    5.4 中国光刻机行业发展问题
    5.4.1 主要问题分析
    5.4.2 产业发展挑战
    5.4.3 行业发展痛点
    5.4.4 行业发展风险
    5.5 中国光刻机行业发展对策
    5.5.1 增加科研投入
    5.5.2 加快技术突破
    5.5.3 加强人才积累
    *六章 2018-2021年光刻机产业链上游分析
    6.1 光刻核心组件重点行业发展分析
    6.1.1 双工作台
    6.1.2 光源系统
    6.1.3 物镜系统
    6.2 光刻配套设施重要行业发展分析
    6.2.1 光刻气体
    6.2.2 光掩膜版
    6.2.3 缺陷检测
    6.2.4 涂胶显影
    6.3 光刻核心组件重点企业解析
    6.3.1 双工作台:华卓精科
    6.3.2 浸没系统:启尔机电
    6.3.3 曝光系统:国科精密
    6.3.4 光源系统:科益虹源
    6.3.5 物镜系统:国望光学
    6.4 光刻配套设施重点企业解析
    6.4.1 配套光刻气:华特气体、凯美特气
    6.4.2 光掩膜版:清溢光电、菲利华
    6.4.3 缺陷检测:东方晶源
    6.4.4 涂胶显影:芯源微
    *七章 2018-2021年光刻机上游——光刻胶行业分析
    7.1 光刻胶行业发展综述
    7.1.1 光刻胶的定义
    7.1.2 光刻胶的分类
    7.1.3 光刻胶重要性
    7.1.4 技术发展趋势
    7.2 **光刻胶行业发展
    7.2.1 光刻胶产业链
    7.2.2 行业发展历程
    7.2.3 市场发展现状
    7.2.4 细分市场分析
    7.3 中国光刻胶企业发展
    7.3.1 国产市场现状
    7.3.2 行业发展规模
    7.3.3 企业布局分析
    7.4 国产光刻胶重点企业运营情况
    7.4.1 江苏南大光电材料股份有限公司
    7.4.2 苏州晶瑞化学股份有限公司
    7.4.3 江苏雅克科技股份有限公司
    7.4.4 深圳市容大感光科技股份有限公司
    7.4.5 上海新阳半导体材料股份有限公司
    7.4.6 北京科华微电子材料有限公司
    *八章 2018-2021年光刻机产业链下游应用分析
    8.1 芯片领域
    8.1.1 芯片相关概念
    8.1.2 芯片制程工艺
    8.1.3 行业运营模式
    8.1.4 芯片产品分类
    8.1.5 行业发展现状
    8.1.6 行业产量规模
    8.1.7 产业结构分布
    8.2 芯片封装测试领域
    8.2.1 封装测试概念
    8.2.2 市场规模分析
    8.2.3 市场竞争格局
    8.2.4 国内重点企业
    8.2.5 封测技术发展
    8.2.6 行业发展趋势
    8.3 LED领域
    8.3.1 LED行业概念
    8.3.2 行业产业链条
    8.3.3 产业市场规模
    8.3.4 **竞争格局
    8.3.5 应用领域分析
    8.3.6 行业发展趋势
    *九章 2018-2021年光刻机行业技术发展分析
    9.1 **光刻技术发展综述
    9.1.1 **技术演进阶段
    9.1.2 **技术发展瓶颈
    9.1.3 **技术发展方向
    9.2 中国光刻技术发展态势
    9.2.1 中国研发进展分析
    9.2.2 国内技术研发状况
    9.2.3 中国发展技术问题
    9.2.4 国内技术研究方向
    9.3 光刻机行业**技术状况
    9.3.1 数据来源分析及介绍
    9.3.2 专利申请趋势分析
    9.3.3 技术产出区域分析
    9.4 光刻机重点技术分析
    9.4.1 接触接近式光刻技术
    9.4.2 投影式光刻技术
    9.4.3 步进式光刻技术
    9.4.4 双工作台技术
    9.4.5 双重图案技术
    9.4.6 多重图案技术
    9.4.7 浸没式光刻机技术
    9.4.8 较紫外光刻技术
    9.5 “02专项”项目分析
    9.5.1 “02专项”项目概述
    9.5.2 “光刻机双工件台系统样机研发”项目
    9.5.3 “较紫外光刻关键技术研究”项目
    9.5.4 “**分辨光刻装备研制”项目
    *十章 2018-2021年中国光刻机成员企业运营分析
    10.1 上海微电子装备(集团)股份有限公司
    10.1.1 企业发展概况
    10.1.2 产品业务分析
    10.1.3 经营情况分析
    10.1.4 企业竞争劣势
    10.1.5 企业股权结构
    10.1.6 技术研究分析
    10.2 合肥芯硕半导体有限公司
    10.2.1 企业发展概况
    10.2.2 企业发展历程
    10.2.3 产品结构分析
    10.2.4 技术研发分析
    10.2.5 核心竞争力
    10.3 无锡影速半导体科技有限公司
    10.3.1 企业发展概况
    10.3.2 企业股权结构
    10.3.3 产品结构分析
    10.3.4 技术研发分析
    10.4 北京半导体**设备研究所
    10.4.1 企业发展概况
    10.4.2 企业客户构成
    10.4.3 产品结构分析
    10.4.4 技术研发分析
    10.4.5 核心竞争力分析
    10.5 成都晶普科技有限公司
    10.5.1 企业发展概况
    10.5.2 业务经营分析
    10.5.3 技术研发分析
    10.5.4 核心竞争力分析
    *十一章 2018-2021年中国光刻机市场前景分析
    11.1 光刻机行业发展前景
    11.1.1 **产品发展趋势
    11.1.2 **应用场景趋势
    11.1.3 中国技术发展机遇
    11.1.4 中国市场需求机遇
    11.2 “十四五”时期光刻机行业发展展望
    11.2.1 先进制程推进加快光刻机需求
    11.2.2 材料设备发展加速产业链完善
    11.3 2022-2027年中国光刻机行业预测分析
    11.3.1 2022-2027年中国光刻机行业影响因素
    11.3.2 2022-2027年中国光刻机行业销售规模预测




    图表目录(部分)
    图表 光刻机结构
    图表 光刻机组成部分及作用
    图表 光刻机工作原理
    图表 正性光刻和负性光刻
    图表 光刻工艺流程图
    图表 IC制造工序
    图表 产线中晶圆制造设备投资额占比
    图表 光刻机光源类型
    图表 接触式曝光分类
    图表 投影式曝光分类
    图表 各个工艺节点和工艺及光刻机类型的关系图
    图表 光刻机演变历程
    图表 EUV光刻机发展规划路径
    图表 接近接触式光刻分类
    图表 光刻机分类
    图表 光刻机产业链
    图表 光刻机组成结构及特点
    图表 光刻机上下游市场产业链及关键企业
    图表 **光刻机市场除ASML、Canon、Nikon规模以上企业
    图表 2021年光刻机**出货情况
    图表 2021年**光刻机企业市场份额占比
    图表 2018-2021年光刻机历年竞争格局(按销量)
    图表 2018-2021年光刻机三大供应商历年销量
    图表 2018-2021年光刻机三大供应商的历年**销售额
    图表 2018-2021年**晶圆厂设备(前端)开支预测
    图表 不同晶圆制造产线所需光刻机数量
    图表 2018年-2021年ASML在中国销售情况
    图表 2018-2021年IC前道光刻机价格变化
    图表 2021年光刻机**市场的产品结构(销量)
    图表 2021年光刻机**市场的产品结构(金额)
    图表 2018-2021年光刻机各类产品销量
    图表 2018-2021年各类光刻机产品**销售额
    图表 **大光刻机企业i-line产品
    图表 2018-2021年i-line光刻机销量
    图表 **大光刻机企业KrF产品
    图表 2018-2021年KrF光刻机销量
    图表 **大光刻机企业ArF产品
    图表 2018-2021年ArF光刻机销量
    图表 **大光刻机企业ArFi产品
    图表 2018-2021年ArFi光刻机销量
    图表 ASML EUV产品
    图表 2018-2021年EUV光刻机销量
    图表 2011-2021年EUV光刻机销售及增速
    图表 2011-2020年EUV光刻机单价变动
    图表 2021之前为ASML快速增长期
    图表 2021年ASML区域市场收入占比
    图表 浸没式系统帮助ASML毛利率与净利率提升
    图表 ASML收购打通EUV产业链
    图表 ASML产业链企业分布
    图表 ASML主要上游供应商
    图表 2018-2021年ASML综合收益表
    图表 2018-2021年ASML分部资料
    图表 2018-2021年ASML收入分地区资料
    图表 2018-2021年ASML综合收益表
    图表 2018-2021年ASML分部资料
    图表 2018-2021年ASML收入分地区资料
    图表 2018-2021年ASML综合收益表
    图表 2018-2021年ASML分部资料
    图表 2018-2021年ASML收入分地区资料
    图表 ASML2021年光刻机销售收入按产品拆分
    图表 ASML2021年光刻机销售净利润按地区拆分
    图表 ASML2018年-2021年光刻机收入按下游应用拆分
    图表 2018-2021年CANON综合收益表
    图表 2018-2021年CANON分部资料
    图表 2018-2021年CANON收入分地区资料
    图表 2018-2021年CANON综合收益表
    图表 2018-2021年CANON分部资料
    图表 2018-2021年CANON收入分地区资料
    图表 2018-2021年CANON综合收益表
    图表 2018-2021年CANON分部资料
    图表 2018-2021年CANON收入分地区资料
    图表 Canon现有光刻机产品
    图表 佳能2016-2020年光刻机设备出货量情况
    图表 佳能2018-2021年光刻机设备营收
    图表 光刻工艺与纳米压印光刻对比
    图表 尼康发展历程
    图表 2018-2021年NIKON综合收益表
    图表 2018-2021年NIKON分部资料
    图表 2018-2021年NIKON收入分地区资料
    图表 2018-2021年NIKON综合收益表
    图表 2018-2021年NIKON分部资料
    图表 2018-2021年NIKON收入分地区资料
    图表 2018-2021年NIKON综合收益表
    图表 2018-2021年NIKON分部资料
    图表 2018-2021年NIKON收入分地区资料
    图表 尼康2021年营收产品结构
    图表 2018-2021年尼康光刻机出货量
    图表 2018-2021年尼康半导体光刻机出货量
    图表 2021年尼康光刻机产品出货情况
    图表 NSR-S635E性能参数
    图表 NSR-S622D性能参数
    图表 NSR-S622D性能参数
    图表 NSR-S622D性能参数
    图表 NSR-S622D性能参数
    图表 尼康2018-2021年研发支出情况
    图表 尼康平板显示器的制造工艺以及FPD曝光装置
    图表 半导体产业历史上重要支持政策
    图表 中外扶持政策对比
    图表 《国家集成电路产业发展推进纲要(2014)》规划目标
    图表 集成电路政策规划目标变化历程
    图表 集成电路产业政策扶持重点变化历程
    图表 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》旧财税政策变化
    图表 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》新增财税政策
    图表 集成电路财税政策变化历程
    图表 集成电路政策扶持企业变化历程
    图表 光刻机产业历史上重要支持政策
    图表 协议中针对军民两用产品和技术控制清单
    图表 瓦森纳对中技术管控升级
    图表 2018-2021年中国科研经费投入
    图表 2018-2021年高科技技术进出口总额及市场成交额
    图表 2021年专利申请数量**国家
    图表 美对中科技制裁历程
    图表 2018-2021年国内生产总值及其增长速度
    图表 2018-2021年三次产业增加值占国内生产总值比重
    图表 2021年3季度和全年GDP初步核算数据
    图表 2018-2021年GDP同比增长速度
    图表 2018-2021年GDP环比增长速度
    图表 2018-2021年货物进出口总额
    图表 2021年货物进出口总额及其增长速度
    图表 2020年主要商品出口数量、金额及其增长速度
    图表 2021年主要商品进口数量、金额及其增长速度
    图表 2021年对主要国家和地区货物进出口金额、增长速度及其比重
    图表 2015-2019年全部工业增加值及其增长速度
    图表 2021年主要工业产品产量及其增长速度
    图表 2018-2021年中国规模以上工业增加值同比增长速度
    图表 2021年规模以上工业生产主要数据
    图表 行业资本来源
    图表 大基金一期、二期政策对比
    图表 大基金一期产业链的投资额占比
    图表 大基金一期产业链的投资额
    图表 大基金一期资金流向
    图表 大基金二期投资流向
    图表 大基金推动产业发展侧重点
    图表 大基金二期目前已投企业梳理
    图表 中国主要地方集成电路产业基金规模
    图表 2018-2021年中国半导体行业薪资同比增长率变化情况
    图表 2018-2021年调研企业人才需求占比情况
    图表 2021年**部分国家和地区吸引和留住人才情况
    图表 2018和2021年集成电路产业链从业人员主动离职率
    图表 中国光刻机产业发展历程
    图表 中国光刻机企业工艺节点进程
    图表 国产光刻机上游产业链
    图表 国产光刻产业链布局
    图表 国产光刻产业链技术进展
    图表 光刻机应用场景
    图表 中国光刻机企业地区分布
    图表 产线中晶圆制造设备投资额占比
    图表 2018年-2021年中国大陆光刻机采购情况
    图表 光刻机企业性质
    图表 2018-2021年中国光刻机进出口总额
    图表 2018-2021年中国光刻机进出口结构
    图表 2018-2021年中国光刻机贸易顺差规模
    图表 2018-2021年中国光刻机进口区域分布
    图表 2018-2021年中国光刻机进口市场集中度(分国家)
    图表 2020年主要贸易国光刻机组进口市场情况
    图表 2021年主要贸易国中国光刻机进口市场情况
    图表 2018-2021年中国光刻机出口区域分布
    图表 2018-2021年中国光刻机出口市场集中度(分国家)
    图表 2020年主要贸易国中国光刻机出口市场情况
    图表 2021年主要贸易国中国光刻机出口市场情况
    图表 2018-2021年主要省市光刻机进口市场集中度(分省市)
    图表 2020年主要省市光刻机进口情况
    图表 2021年主要省市光刻机进口情况
    图表 2018-2021年中国光刻机出口市场集中度(分省市)
    图表 2020年主要省市光刻机出口情况
    图表 2021年主要省市光刻机出口情况
    图表 国内外半导体设备企业研发阶段
    图表 2018-2021年ASML财务报表
    图表 2018-2021年美对中技术限制事件
    图表 2018-2021年**激光器销售情况
    图表 2018-2021年**准分子激光器销售情况
    图表 2018-2021年**光学镜头市场规模
    图表 2018-2021年中国光学镜头市场规模
    图表 2018-2021年**电子特气市场规模
    图表 2021年电子特气下游应用比例
    图表 2022年-2027年芯片用电子特气市场规模预测
    图表 2018年-2021年中国电子特气市场规模及增速
    图表 光刻气体种类
    图表 2021年中国大陆电子气体市场占比
    图表 2018-2021年国内光刻气发展情况
    图表 行业内主要企业
    图表 掩膜版行业格局
    图表 **各大厂商可供应的高端产品情况
    图表 国内掩模版市场格局
    图表 2018-2021年中国**半导体设备市场规模
    图表 2018-2021年中国半导体检测设备市场规模
    图表 2021年**涂胶显影市场
    图表 2021年国内涂胶显影设备市场格局
    图表 涂胶显影设备InLine是未来趋势
    图表 公司发展历史
    图表 华卓精科主营业务&产品
    图表 硅片台双台交换系统参数性能
    图表 启尔电机企业发展历程
    图表 启尔电机浸没式系统研究总体方案
    图表 EpolithA075型参数
    图表 科益虹源股权结构图
    图表 科益虹源企业发展历程
    图表 国望光学股权图
    图表 凯美特气主要产品及应用
    图表 2018-2021年凯美特气营收情况
    图表 清溢光电产品介绍
    图表 清溢光电历史大事记
    图表 国内外主要光罩厂商产品供应情况
    图表 菲利华光掩膜版客户端链条
    图表 SEpAI新型CD-SEM/EDS
    图表 2018-2021年芯源微营收情况
    图表 2018-2021年芯源微净利率情况
    图表 光刻胶按显示效果分类
    图表 光刻胶应用制程及分类
    图表 光刻胶的主要技术参数
    图表 光的特性限制了光刻的极限分辨率
    图表 光刻胶成分及作用
    图表 光刻胶下游对应产品类型
    图表 光刻胶上下游产业链
    图表 光刻胶的发展历程
    图表 2022-2027年**光刻胶市场规模及预测
    图表 2021年光刻胶厂商市场占比
    图表 **主要光刻胶企业量产与研发节点
    图表 2021年**光刻胶市场结构
    图表 2021年g/i线光刻胶市场格局
    图表 2021年ArF光刻胶市场格局
    图表 2021年KrF光刻胶市场格局
    图表 2021年国产光刻胶产业结构
    图表 2018-2021年国内光刻胶市场规模
    图表 2018-2021年国内光刻胶市场规模
    图表 企业在不同光刻胶产品的布局
    图表 国内外主要光刻胶厂量产对比
    图表 容大感光光刻胶产品
    图表 北京科华微电子设备与管理体系
    图表 各类制程主要芯片及下游应用
    图表 主要晶圆代工厂不同进程芯片量产时间
    图表 芯片按功能划分
    图表 2018-2021年中国集成电路产量统计及增长情况
    图表 2021年中国集成电路产量区域分布
    图表 2018-2021年**芯片封测市场规模
    图表 2018-2021年中国封测市场销售额
    图表 2021年*三季度**封测厂排名
    图表 2021年主要封测企业先进封装技术布局对比
    图表 四阶段封装技术发展
    图表 2022-2027年**IC先进封装市占率预测
    图表 小间距LED、MiniLED、MicroLED对比
    图表 2018-2021年**LED产业市场规模
    图表 2018-2021年中国LED产业市场规模
    图表 **LED行业市场区域竞争格局
    图表 2018-2021年我国LED产业市场规模
    图表 光刻机历代工艺
    图表 光谱
    图表 中国光刻机现有产品
    图表 中国光刻技术面临的困难与挑战
    图表 单位晶体管成本
    图表 2018-2021年中国光刻机专利申请情况
    图表 2018-2021年光刻机**申请量趋势
    图表 2018-2021年光刻机专利申请地域分布图
    图表 光刻机重点申请人申请量排名
    图表 2018-2021年EUV重点申请人申请量排名
    图表 早期接触接近式光刻技术
    图表 步进式投影示意图
    图表 普通光刻技术(正性光刻)
    图表 双重图案技术
    图表 双重图案技术中的自对准间隔技术
    图表 自对准间隔技术的四重图案化
    图表 45nm制程下一代光刻技术两种发展轨迹
    图表 浸没式光刻机与传统光刻技术对比
    图表 EUV与ArFi工艺对比
    图表 EUV技术难点与解决措施
    图表 “02专项”目标
    图表 “02专项”部分参与单位
    图表 *五代光刻机光源
    图表 EUV研发的五大难题问题类型
    图表 **分辨光刻机研制的意义
    图表 上海微电子发展历程
    图表 SMEE主营产品分类
    图表 600系列光刻机分类
    图表 500系列光刻机分类
    图表 300系列光刻机分类
    图表 600系列光刻机分类
    图表 2019年半导体设备厂商排名
    图表 上海微电子IC前道光刻工艺与国际先进水平差距明显
    图表 SMEE股权结构
    图表 2018-2021年上微电专利申请情况
    图表 公司发展历程
    图表 ATD规格产品参数
    图表 ATI规格产品参数
    图表 LDI规格产品参数
    图表 2011-2015年芯硕半导体专利申请情况
    图表 芯硕半导体核心技术
    图表 江苏影速集成电路装备股份有限公司股权结构
    图表 影速光刻机产品种类与性能
    图表 LP3000/8000技术参数表
    图表 Q7500D/DiAuto7技术参数表
    图表 SM300/SM100技术参数表
    图表 R2R800技术参数表
    图表 IC250/IC150技术参数表
    图表 2018-2021年无锡影速公布**技术情况
    图表 2018-2021年无锡影速专利申请情况
    图表 企业关系图谱
    图表 不同产品参数
    图表 BG-401A双面曝光机主要技术特点
    图表 BG-406双面曝光机主要技术特点
    图表 SB-402双面曝光机主要技术特点
    图表 2018-2021年中科院四十五所专利申请情况
    图表 晶普科技光刻机产品
    图表 2018-2021年中国科学院光电技术研究所专利申请情况
    图表 三大运营商5G建设进展
    图表 2021年中国5G智能手机出货量及占比
    图表 **物联网整体收入规模
    图表 **物联网连接数量
    图表 2022-2027年未来新能源汽车销售量预测
    图表 2022-2027年**自动驾驶汽车出货量及增长率预测
    图表 国内晶圆厂商产品规划
    图表 各大晶圆厂产线状态
    图表 中智正业对2022-2027年光刻机销售量预测

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  • 中国电动洗地机行业销售动态与营销前景预测报告2022-2028年

     中国电动洗地机行业销售动态与营销前景预测报告2022-2028年###*###**###**###**###**###**###**###**###**   《报告编号》: BG428957《出版时间》: 2022年6月《出版机构》: 中智正业研究院《交付方式》: EMIL电子版或特快专递 《报告价格》:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元

  • 中国硅凝胶片行业运行状况与盈利前景预测报告(精华版)2022-2028年

     中国硅凝胶片行业运行状况与盈利前景预测报告(精华版)2022-2028年¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥¥   《报告编号》: BG430357《出版时间》: 2022年7月《出版机构》: 中智正业研究院《交付方式》: EMIL电子版或特快专递 《报告价格》:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元&n

  • K中国鬃毛加工行业发展状况与投资战略报告2020-2026年

     K中国鬃毛加工行业发展状况与投资战略报告2020-2026年 【报告编号】: BG514325【出版时间】: 2020年9月【出版机构】: 中智正业研究院【交付方式】: EMIL电子版或特专递 【报告价格】:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元 【联 系 人】: 魏佳--客服专员   

  • 中国光谱仪行业前景动态与应用趋势预测报告(2022-2028年)

    中国光谱仪行业前景动态与应用趋势预测报告(2022-2028年)%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%%  《报告编号》: BG426491《出版时间》: 2022年5月《出版机构》: 中智正业研究院《交付方式》: EMIL电子版或特快专递 《报告价格》:【纸质版】: 6500元 【电子版】: 6800元 【纸质+电子】: 7000元&nb

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