注册资金:人民币400万元
企业经济性质 | 有限责任公司 | 法人代表或负责人 | |
---|---|---|---|
企业类型 | 生产加工 | 公司注册地 | |
注册资金 | 成立时间 | 1998 | |
员工人数 | 月产量 | ||
年营业额 | 年出口额 | ||
管理体系认证 | 主要经营地点 | ||
主要客户 | 厂房面积 | ||
是否提供OEM代加工 | 否 | 开户银行 | |
银行帐号 | |||
主要市场 | |||
主营产品或服务 | 离子氮化炉; 金属表面改性设备、离子氮化设备; 离子渗硫设备 |
企业名称 | 武汉先发表面处理* | 工商注册号 | 4201062202184 |
---|---|---|---|
登记状态 | 存续 | 住所 | 武昌区中北路98号102号房 |
类型 | 个人独资企业 | 法定代表人 | 陈战 |
注册资本 | 成立日期 | 2002年8月12日 | |
营业期限自 | 营业期限至 | ||
登记机关 | 武汉市武昌区工商行政管理和质量技术监督局 | 核准日期 | 2002年8月12日 |
经营范围 | 离子电源成套设备和其它化学热处理、工艺研究、应用推广及**电源、仪器仪表、自动化控制工程、新材料、新技术、新工艺的技术服务 |